安森美半导体推出High-Q™ IPD工艺设计套件

安森美半导体(ON Semiconductor)宣布提供针对公司High-Q™集成无源器件(IPD)工艺的完整从前到后工序工艺设计套件(PDK)。这PDK开发是为了配合安捷伦科技的先进设计系统(ADS) 2011电子设计辅助(EDA)软件一起使用，使安森美半导体及安捷伦科技的客户能够充分利用业界最全面射频(RF)及微波设计平台的优势。

安森美半导体的High-Q™ IPD工艺技术提供高电阻率硅铜(copper on high resistivity silicon)平台，非常适合用于生产无源器件，如用于便携、无线及射频应用的平衡-不平衡转换器、滤波器、耦合器、双工器及匹配网络。IPD技术用于安森美半导体在美国俄勒冈州Gresham的世界一流200 mm晶圆制造厂制造铜电感、精密电容及精密电阻。IPD为射频系统级封装提供高性价比方案。安森美半导体还为工程原型开发提供经济合算的晶圆厂往返服务。此外，安森美半导体还提供多种应用定制规格的设计服务。

安森美半导体定制晶圆代工及IPD分部高级总监Rick Whitcomb说：“IPD工艺在射频应用极受垂青，我们看到客户极想要这工艺扩展至配合安捷伦的ADS平台。我们为客户提供包括布线和集成EM支援在内的完整ADS设计套件，他们便能利用安捷伦在射频及微波设计领域经证明的专知之优势。”
为客户提供的全功能ADS设计套件可用于布线、仿真及验证，支持电路图驱使型布线生成、布线与电路图对比检验、集成3D平面电磁及3D-FEM仿真器。

安捷伦科技EEsof EDA晶圆制造项目经理Juergen Hartung说：“ADS与IPD工艺完美匹配，ADS与安森美半导体IPD设计套件的组合使相互的客户能够获得高效的集成设计平台。ADS不仅为IPD裸片本身提供完整的从前到后工序应用平台，还直接能设计出包含IPD的完整射频模块。”