Molex子公司 Polymicro改进用于深紫外线应用的FDP光

 Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纤产品，最新的性能提升改进了光纤产品在深紫外线应用(190nm - 325nm)中的曝晒。

Polymicro Technologies全球产品经理Teodor Tichindelean表示：“推出光纤FDP革新性紫外线应用，让我们很高兴为客户带来具有更好品质的增强型FDP光纤产品，用于耐受紫外线曝晒。”

Polymicro公司的silica内芯FDP光纤具有超高紫外线传输和超低紫外线曝晒特性，具有出色的耐辐射能力。在低至190nm条件下运作，并且具有出色的深紫外线耐曝晒特性，FDP光纤已经成为深紫外线领域应用的首选光纤产品。新型FDP光纤提供了更好的耐曝晒性能，来维持更长的传输时间，同时最大限度地减少对光纤的损坏。

对于深紫外线领域应用，高水平紫外线辐射的影响会引起光纤传输退化，光纤传输通常在数小时后发生损耗。

Tichindelean补充道：“与先前的产品型款相比，改进的FDP光纤在初始退化之后可将光输出提高大约10%。对于Polymicro客户，这可以转化为更好的光发射和更长的产品寿命。”

Polymicro FDP光纤实现了对尺寸的控制和紧密的容差，并备有一系列选项，包括定制内芯尺寸、涂层、缓存和配件。Molex和Polymicro设施通过了ISO 9001、13485和14001认证。